真空沉积技术
概述
真空沉积技术是真空镀膜。真空气相沉积是利用热蒸发或辉光放电、弧光放电等物理过程,在基材表面沉积所需涂层的技术。
2 扩展释义
真空沉积技术是真空镀膜。真空气相沉积是利用热蒸发或辉光放电、弧光放电等物理过程,在基材表面沉积所需涂层的技术。
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本词条最后更新于 2026-07-12 07:05:36
真空沉积技术是真空镀膜。真空气相沉积是利用热蒸发或辉光放电、弧光放电等物理过程,在基材表面沉积所需涂层的技术。
真空沉积技术是真空镀膜。真空气相沉积是利用热蒸发或辉光放电、弧光放电等物理过程,在基材表面沉积所需涂层的技术。
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