样品制备
概述
样品制备在透射电子显微分析技术中占有相当重要的位置。由透射电镜的工作原理可知，供透射电镜分析的样品必须对电子束是透明的，通常样品观察区域的厚度以控制在约100～200 nm为宜。此外，所制得的样品还必须具有代表性以真实反映所分析材料的某些特征，因此，样品制备时不可影响这些特征，如已产生影响则必须知道影响的方式和程度。透射电镜样品制备是一个涉及面很广的题目，方法也很多。选择哪种方法，则取决于材料的类型和所要获取的信息。透射电镜样品可分为间接样品和直接样品．本章仅介绍应用较广的复型、电解双喷、离子薄化等样品制备技术。
2 扩展释义
样品制备在透射电子显微分析技术中占有相当重要的位置。由透射电镜的工作原理可知，供透射电镜分析的样品必须对电子束是透明的，通常样品观察区域的厚度以控制在约100～200 nm为宜。此外，所制得的样品还必须具有代表性以真实反映所分析材料的某些特征，因此，样品制备时不可影响这些特征，如已产生影响则必须知道影响的方式和程度。透射电镜样品制备是一个涉及面很广的题目，方法也很多。选择哪种方法，则取决于材料的类型和所要获取的信息。透射电镜样品可分为间接样品和直接样品．本章仅介绍应用较广的复型、电解双喷、离子薄化等样品制备技术。
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本词条最后更新于 2026-07-13 13:11:51
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