中子嬗变掺杂
概述
中子嬗变掺杂(NTD)是采用中子辐照的办法来对材料进行掺杂的一种技术,其最大优点就是掺入的杂质浓度分布非常均匀。掺杂剂的完全均匀分布,且在掺杂剂浓度的最大值和最小值之间不存在任何差异,可望获得最佳的器件性能。此外,良好的掺杂重复性对于制造高能设备中的高压器件也非常重要,这些高能设备中需要大量使用具有相同性能的器件。
2 扩展释义
中子嬗变掺杂(NTD)是采用中子辐照的办法来对材料进行掺杂的一种技术,其最大优点就是掺入的杂质浓度分布非常均匀。掺杂剂的完全均匀分布,且在掺杂剂浓度的最大值和最小值之间不存在任何差异,可望获得最佳的器件性能。此外,良好的掺杂重复性对于制造高能设备中的高压器件也非常重要,这些高能设备中需要大量使用具有相同性能的器件。
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本词条最后更新于 2026-07-14 05:09:47
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