吸除

概述

定 义 使晶片中有害杂质固定在远离器件有源区,以获得表面洁净区的工艺。

2 扩展释义

定 义 使晶片中有害杂质固定在远离器件有源区,以获得表面洁净区的工艺。

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本词条最后更新于 2026-07-13 20:55:24