最小曝光量
概述
最小曝光量，完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
2 扩展释义
最小曝光量，完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
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本词条最后更新于 2026-07-12 13:47:13